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普達特科技半導體設備獲客戶驗收 12英吋爐管及清洗設備國產化突破

普達特科技 · 00650 · 2026-03-24 20:42:00 · 13 瀏覽

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技術指標: 縮寫說明
RSI(10) RSI(14) RSI(20) MACD(12,26) SAR(14) WPR(14) ADX(14) STOCH(14,6) ADOSC CMF(14) MTM(9) MTMOSC(9) ROC100(14) STOCHRSI(14) OBV BBANDS(20) CONTRISE CONTFALL
移動平均線:
SMA(5) SMA(10) SMA(20) SMA(50) SMA(100) EMA(5) EMA(10) EMA(20) EMA(50) EMA(100)
創新高/創新低:
HIGH(5) HIGH(10) HIGH(20) HIGH(50) HIGH(100) HIGH(250) LOW(5) LOW(10) LOW(20) LOW(50) LOW(100) LOW(250)
回報率:
ROC(5) ROC(10) ROC(20) ROC(50) ROC(100) ROC(250)
成交量:
VOLUME.SMA(5) VOLUME.SMA(10) VOLUME.SMA(20) VOLUME.SMA(50) VOLUME.SMA(100) VOLUME.SMA(250)
選股:
預設 大價股 中價股 細價股 恆指成份股 REITs 銀行股 地產股 電訊股 公用股

普達特科技
00650 營運數據 業務發展 lvl2

普達特科技(00650.HK)自願公佈半導體設備業務進展 🚀

集團一台12英吋LPCVD爐管設備已成功通過客戶驗收，應用於LP-SiN薄膜沉積工藝。另一台12英吋ALD爐管設備正在客戶端驗證中，應用於ALD-SiN/ALD-SiCN薄膜沉積工藝。

集團的Galilee-LP與Galilee-ALD設備平台，服務12英吋邏輯制程、DRAM及3D NAND領域，應用覆蓋65nm至7nm先進節點，可沉積SiN、Poly、TEOS等多種膜層材料。該類設備市場目前主要由海外供應商壟斷，國產化率極低。集團設備在填充深寬比、均勻性等性能指標達到國際標準的同時，擁有更高的批次生產效率。

此外，自2025年10月至今，已有五台6至12英吋CUBE單片清洗設備成功於多家高質量客戶處通過驗收，應用於SiC/功率器件等領域，其中兩台為重複訂單。

集團未來將繼續完成先進爐管與清洗設備的交付與驗收，持續擴大高質量客戶基礎，推動先進半導體設備國產化取得進一步突破。💪

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